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  • 供液系统
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SDS供液系统:为CeO2研磨液供应设备,主要用于对半导体行业的CMP机台进行供液,各过程均为全自动控制,有效减少人工,高效快捷,均可实现可视化管理和人机界面控制。

CDS供液系统:为HF酸溶液稀释及供应设备,主要用于清洗机台的供液,各过程均为全自动控制,有效减少人工,高效快捷,均可实现可视化管理和人机界面控制。


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